阻垢剂
- Basf巴斯夫
- IGM艾坚蒙
- Lanxess朗盛
- Mistubishi三菱
- Hanwha韩华
- Dow陶氏
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- Kuraray可乐丽
- Eastman伊士曼
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GE贝迪阻垢剂 上海凯盛利有限公司专注于进口一线品牌原料,致力于为企业提供一种快速、方便、安全、放心的原材料采购通道!
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- 品牌:GE贝迪
- 型号:MDC170
- 产品特性:高效能的液状阻垢/分散剂
- 包装规格:25KG/塑桶,220KG/塑桶
- 应用:控制膜分离系统中控制碳酸钙、硫酸盐及氧化铁沉淀所造成的结垢
- 产品特点:1、饮用水用合格认证 (ANSI/NSF60 认证 ) 标准;2、与 SoliSep MPT150 及 ST 等有机絮凝剂兼容;3、有效控制碳酸钙、硫酸钙、硫酸锶结垢碳酸钙的 LSI 高达 +3.0 尚不致结垢;4、适用于所有主要反渗透膜;5、分散阻塞微粒来维持反渗透膜表面干净;6、进水的 pH 范围从 5-9 仍属有效范围内;7、可直接添加或稀释使用。
- Hypersperse MDC170可用于控制膜分离系统结垢沉淀及减少微粒堵塞。产品特性 外观:清澈的琥珀色液体 密度: 1.1±0.05 PH(5%): 2.5±0.5( 5% ) 熔点: <-15°C 流点: -12°C 粘度: 179 mPas ( 20°C )
- 使用说明:Hypersperse MDC170是高效能的液状阻垢/分散剂,用于控制膜分离系统中控制碳酸钙、硫酸盐及氧化铁沉淀所造成的结垢。使用此阻垢剂后可延长系统清洗周期,使膜寿命延长而降低成本。Hypersperse MDC170已广泛应用于反渗透及纳滤装置中。
- 问题叙述:进水的高盐份及铁化合物所产生的无机物沉淀是造成膜分离系统中结垢污染的主要原因,必须控制此现象来防止反渗透膜表面沉积产生并避免升高的压力差而导致反渗透膜表面损伤。
- 强力保护避免沉积:
- Hypersperse MDC170可适用于不同水源, Argo Scientific Hypersperse 产品结合了有机磷酸盐 (phosphonate) 及分散性高分子聚合物来防止硬度及氧化铁沉积。
- 处理及添加的要求:1、加药点:为了达到大效能HypersperseMDC170好在混合器或保安过滤器之前添加;2、请与我们联系,针对您特定系统条件来决定加药点及加药量,在某些系统中,特定的加药点及注入设备是必须的。
- 加药量:所需要的加药量需根据个别装置操作条件确定,要根据进水盐度、温度、回收率、反渗透膜种类等条件而计算出一个合适的加药量。Hypersperse MDC170可以直接加入或稀释使用。稀释要使用 RO 产水或脱盐水,在常温下稀释倍数不超过10。稀释:大稀释浓度与温度的关系如下:温度(摄氏度) 大稀释浓度% <30 10% 30-35 25% >3550%包装:产品包装形式为25KG/塑桶及220KG/塑桶,贮存于室内阴凉处,贮存期为一年。
ArgoMDC170阻垢剂与传统阻垢剂的技术特点比较
晶体修改型阻垢剂 | ArgoMDC150阻垢剂 | |
阻垢剂类型 | 晶体修改型 | 阻止晶体生成型 |
阻垢原料 | 含磷小分子或含磷多元共聚物(有机膦)与其他高分子聚合物的复合配方 | 树枝状聚合物Dendrimer的高纯度单一合成体 |
生产工艺 | 买来用于锅炉或冷却循环水阻垢的原料药剂按一定比例复合配制,难以保证配方 纯度和溶解度 | 拥有世界科技前沿完整生产线及使用技术自行生产合成Dendrimer |
阻垢原理 | 促使金属微晶(Ca2++SO42-=CaSO4)生成后再通过对晶体生长进行修改,阻止微晶长大为 沉淀 | 直接阻止微晶(CaSO4)生成 |
阻垢产物 | 大量微晶生成并悬浮于浓水中,当其覆盖 于膜表面时,则导致反渗透膜污堵 | 无微晶生成 |
阻垢剂对膜的污染影响 | 含磷分子设计导致其本身也可与膜表面 生成氢键链接,从而导致膜的污堵 | 树枝状聚合物Dendrimer与膜不会发生任何反应或附着 |
阻垢方式对膜的污染影响 | 由于其本质为较原始的螯和掩蔽,故会有大量微晶生成,当加药量过大时,微晶会在 膜表面形成冻胶状排列,导致膜的污染 | Dendrimer的阻垢方式为完全防止微晶产生,所以不会在膜表面产生任何污染 |
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